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芯片生产废水处理技术

一．芯片废水来源：

集成电路芯片制造生产工艺复杂，包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交叉，生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3・H2O等。

二．芯片废水分类

将生产废水处理分为：含氨废水处理系统、含氟废水处理系统、CMP研磨废水处理系统及酸碱废水处理系统。

2.1 含氨废水处理系统

含氨废水有两部分，一部分是浓氨氮废水，主要含氨氮和双氧水，氨氮浓度达400～1200mg/L;另一部分是稀氨废水，主要含氟化氨，氨氮浓度低于100mg/L。

2.2 含氟废水处理系统

工艺中采用CaCl2溶液代替传统去氟采用的消石灰，可减少氟化钙污泥量、原料用量和碱液，同时，可避免粉态消石灰的逸散，防止管道堵塞，易于控制投加量，确保系统的稳定高效运行。

2.3 CMP研磨废水处理系统

研磨废水处理与含氟废水处理很相近，若从节省投资的角度考虑，可以采用同一系统同时处理含氟和CMP研磨两股废水，否则，将增加额外的投资。

三．处理工艺

3.1 二级反应+一级助凝十一级沉淀，系统出水氟离子浓度基本达到<Zomg/L要求;若增加一级沉淀，即用二级反应+沉淀+一级反应+沉淀的两阶段沉淀反应，系统出水氟离子浓度可控制在10mg/L以下。

3.2 浓氨吹脱吸收工艺—含氟废水两阶段沉淀工艺(含氟废水与CMP研磨废水混合处理)—三级酸碱中和处理工艺。

3.3 两级反应池、酸碱原液直接投加，运行出水不稳定且药剂消耗量很大。

3.4反冲洗过滤器，是一种利用滤网直接拦截水中的杂质，去除水体悬浮物、颗粒物，降低浊度，净化水质，减少系统污垢、菌藻、锈蚀等产生，以净化水质及保护系统其他设备正常工作的设备。经反冲洗过滤器处理后的水质不但达到了国家规定的废水排放标准，经反冲洗过滤器处理后的水源可重复、循环利用有效的节省了水资源。

四、芯片生产废水严重的污染的水资源及环境，有效治理芯片生产废水已刻不容缓。

发布：2007-07-30 09:41 编辑：泛普软件 · xiaona [打印此页] [关闭]

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